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    中國芯片生產(chǎn)技術(shù)第一次占領(lǐng)世界制高點(diǎn)?專(zhuān)家表態(tài)

    發(fā)布時(shí)間:2019-02-13 08:01:29 文章來(lái)源:damnuuuq 點(diǎn)擊次數:1723次

    中國芯片生產(chǎn)技術(shù)第一次占領(lǐng)世界制高點(diǎn)?專(zhuān)家表態(tài)

    中國芯片生產(chǎn)技術(shù)第一次占領(lǐng)世界制高點(diǎn)?專(zhuān)家表態(tài)

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      原標題:專(zhuān)家:國產(chǎn)刻蝕機很棒,但造芯片只是“配角”

      本報記者 高 博

      近來(lái)有網(wǎng)絡(luò )媒體稱(chēng),“中微半導體自主研制的5納米等離子體刻蝕機,性能優(yōu)良,將用于全球首條5納米芯片制程生產(chǎn)線(xiàn)”,并評論說(shuō)“中國芯片生產(chǎn)技術(shù)終于突破歐美封鎖,第一次占領(lǐng)世界制高點(diǎn)”“中國彎道超車(chē)”等等。

      中微公司的刻蝕機的確水平一流,但夸大闡述其戰略意義,則被相關(guān)專(zhuān)家反對??涛g只是芯片制造多個(gè)環(huán)節之一??涛g機也不是對華禁售的設備,在這個(gè)意義上不算“卡脖子”。

      光刻機是芯片制造中用到的最金貴的機器,要達到5納米曝光精度難比登天,ASML公司一家通吃高端光刻機;而刻蝕機沒(méi)那么難,中微的競爭對手還有應用材料、泛林、東京電子等等,國外巨頭體量?jì)?yōu)勢明顯?! ?/p>

      首先,外行容易混淆“光刻機”和“刻蝕機”。光刻機相當于畫(huà)匠,刻蝕機是雕工。前者投影在硅片上一張精細的電路圖(就像照相機讓膠卷感光),后者按這張圖去刻線(xiàn)(就像刻印章一樣,腐蝕和去除不需要的部分)。

      “中微的等離子刻蝕機這幾年進(jìn)步確實(shí)不小,”科技日報記者采訪(fǎng)的一位從事離子刻蝕的專(zhuān)家說(shuō),“但現在的刻蝕機精度已遠超光刻機的曝光精度;芯片制程上,刻蝕精度已不再是最大的難題,更難的是保證在大面積晶圓上的刻蝕一致性?!?/p>

      該專(zhuān)家解釋說(shuō),難在如何讓電場(chǎng)能量和刻蝕氣體都均勻地分布在被刻蝕基體表面上,以保證等離子中的有效基元,在晶片表面的每一個(gè)位置實(shí)現相同的刻蝕效果,為此需要綜合材料學(xué)、流體力學(xué)、電磁學(xué)和真空等離子體學(xué)的知識。

      該專(zhuān)家說(shuō):“刻蝕機更合理的結構設計和材料選擇,可保證電場(chǎng)的均勻分布??涛g氣體的饋入方式也是關(guān)鍵之一。據我所知,中微尹志堯博士的團隊在氣體噴淋盤(pán)上下過(guò)不少的功夫。另外包括功率電源、真空系統、刻蝕溫度控制等,都影響刻蝕結果?!?/p>

      另外,該專(zhuān)家也指出,刻蝕機技術(shù)類(lèi)型很多,中微和他們的技術(shù)原理就有很大區別,至于更詳細的技術(shù)細節,是每個(gè)廠(chǎng)家的核心機密。

      順便一提:刻蝕分濕法(古代人就懂得用強酸去刻蝕金屬,現代工藝用氟化氫刻蝕二氧化硅)和干法(如用真空中的氬等離子體去加工硅片)?!皾穹ǔ霈F較早,一般用在低端產(chǎn)品上。干法一般是能量束刻蝕,離子束、電子束、激光束等等,精度高,無(wú)污染殘留,芯片制造用的就是等離子刻蝕?!痹搶?zhuān)家稱(chēng)。

      上述專(zhuān)家稱(chēng)贊說(shuō),尹博士以及中微的核心技術(shù)團隊,基本都是從國際知名半導體設備大廠(chǎng)出來(lái)的,尹博士原來(lái)就在國外獲得了諸多的技術(shù)成就。中微不斷提高改進(jìn),逐步在芯片刻蝕機領(lǐng)域保持了與國外幾乎同步的技術(shù)水平。

      在IC業(yè)界工作多年的電子工程師張光華告訴科技日報記者:“一兩年前網(wǎng)上就有中微研制5納米刻蝕機的報道。如果能在臺積電應用,的確說(shuō)明中微達到世界領(lǐng)先水平。但說(shuō)中國芯片‘彎道超車(chē)’就是夸大其詞了?!?/p>

      “硅片從設計到制造到封測,流程復雜??涛g是制造環(huán)節的工序之一,還有造晶棒、切割晶圓、涂膜、光刻、摻雜、測試等等,都需要復雜的技術(shù)。中國在大部分工序上落后?!睆埞馊A說(shuō),“而且,中微只是給臺積電這樣的制造企業(yè)提供設備,產(chǎn)值比臺積電差幾個(gè)數量級?!?/p>

      科技日報記者發(fā)現,2017年開(kāi)始網(wǎng)絡(luò )上經(jīng)常熱炒“5納米刻蝕機”,而中微公司一再抗議媒體給他們“戴高帽”。

      “不要老把產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提高到政治高度,更不要讓一些新聞人和媒體搞吸引眼球的不實(shí)報導?!币緢?018年表示,“對我和中微的夸大宣傳搞得我們很被動(dòng)……過(guò)一些時(shí)候,又改頭換面登出來(lái),實(shí)在讓我們頭痛?!?/p>


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